痕量分析用純化取水終端 Genie De-ion專(zhuān)為痕量和超痕量元素分析定制，滿(mǎn)足嚴苛的用水要求。Genie De-ion 是樂(lè )楓專(zhuān)門(mén)設計，與Genie G 或Genie PURIST 智能超純水系統配合使用的純化、取水終端，提供超低元素水平的分析級超純水，離子含量低至ppt 甚至亞ppt 水平，使用者可通過(guò)Genie 主控屏、終端觸摸屏或腳踏開(kāi)關(guān)控制取水。Genie De-ion 適用于電感耦合
更新時(shí)間：2024-01-12
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痕量和超痕量分析在科研、工業(yè)和檢測等各個(gè)領(lǐng)域發(fā)揮著(zhù)越來(lái)越重要的作用，這些*靈敏度的分析技術(shù)對分析過(guò)程中的污染風(fēng)險零容忍。純水在其中，參與清洗部件、冷卻、標準曲線(xiàn)繪制、樣品制備等諸多環(huán)節。水的純度，必須滿(mǎn)足嚴苛的要求。
痕量分析用純化取水終端 Genie De-ion是樂(lè )楓專(zhuān)門(mén)設計，與Genie G 或Genie PURIST 智能超純水系統配合使用的純化、取水終端，提供超低元素水平的分析級超純水，離子含量低至ppt 甚至亞ppt 水平，使用者可通過(guò)Genie 主控屏、終端觸摸屏或腳踏開(kāi)關(guān)控制取水。Genie De-ion 適用于電感耦合等離子體質(zhì)譜（ICP-MS）、石墨爐原子吸收（GF-AAS）等各種痕量/ 超痕量元素分析技術(shù)。
痕量分析用純化取水終端 Genie De-ion優(yōu)勢特點(diǎn)：
● 裝有 ICP 型超純化柱，對超純水進(jìn)行深度純化進(jìn)一步去除痕量離子，持續提供ppt 或亞ppt 離子水平的超純水。
· 優(yōu)化水路設計，提高過(guò)水量，水質(zhì)穩定。
· 柱體耐壓強，接口雙重密封，漏水風(fēng)險低。
· 帶智能識別碼（RFID），智能化管理，工作狀態(tài)實(shí)時(shí)監控，隨時(shí)追溯水質(zhì)歷史數據、使用參數等。
· 安裝更換簡(jiǎn)單，可以單手操作。
● 終端自帶彩色觸摸屏
· 2.4 英寸，實(shí)時(shí)顯示水質(zhì)/ 流速等常用信息。
· 可戴手套和帶水操作。
· 設置手動(dòng)或定量取水，調節流速。
● 布局靈活，安裝便利，節省實(shí)驗室空間
典型應用 · ICP-MS 分析 · 石墨爐原子吸收光譜分析 · 痕量和超痕量元素分析 · 關(guān)鍵儀器清洗等 | 應用領(lǐng)域/ 行業(yè) · 電子、芯片、半導體 · 食品、農業(yè)、藥品、醫學(xué) · 環(huán)保、地質(zhì) · 核工業(yè)、能源、法醫、 · 化學(xué)化工等 |
性能指標
超純水技術(shù)指標 | |
取水流速 | 0 - 1.5 L/min |
電阻率 ( ＠ 25℃ ) | 18.2 MΩ·cm |
TOC | < 5 ppb |
尺寸及重量 | |
寬 × 深 ×高 | 21 cm × 29 cm × 53 cm |
重量 | 21 kg |
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